TEMC CNS

장비사업

HOME > 사업소개 > 장비사업

Chemical Supply System

H3PO4, NFAM, BOE등 반도체 공정에 필요한 chemical을 원하는 Point로 공급하는 System 약액을 혼합 또는 희석하여 공급하는 장치

Slurry Supply System

CMP 공정에 필요한 Slurry(Ceria, Oxide, Tungsten, Copper)를 mixing or Supply하여 고객이 요구하는 Point 에 공급하는 System

N2 Side Storage

Wafer slot 간 일정한 N2 BLOWING으로 Fume 오염과 잔류 가스에 의해 표면이 손상되는 것을 방지하고 보완하기 위한 장치

Horizontal Low Pressure Diffusion Furnance

솔라셀 연구 및/또는 생산을 위한 횡형 확산전기로

Horizontal PE CVD

태양광 공정에 사용되는 횡형 플라즈마 증착장비